XPS-Labor

Das Institut für Chemie unterhält in der Physikalischen Chemie ein modernes Röntgen-Photoelektronen-Spektrometer (XPS-Spektrometer) zur Oberflächenanalyse.

Bei XPS wird die Probe mit Röntgenlicht bestrahlt. Die dadurch aus der Oberfläche herausgelösten Photoelektronen werden nach ihrer kinetischen Energie analysiert und liefern detaillierte qualitative und quantitative Informationen über die in der Oberfläche vertretenen Elemente und bei hochauflösenden Spektren auch über den chemischen Zustand dieser Elemente.

Das Gerät ermöglich sowohl schnelle Messungen mit exzellentem Signal-Rausch-Verhältnis als auch Messungen mit höchster Auflösung, die erreichbare Halbwertsbreite liegt für die Silber-3d-Linie bei unter 0.6 eV. Das hohe Signal-Rausch-Verhältnis ist wesentlich für Messungen mit empfindlichen Proben um die notwendige Röntgendosis klein zu halten. Neben XPS sind noch weitere Messmodi wie UPS und REELS möglich. 

Gerätedaten:

System: ESCALAB 250 Xi (Thermo Fisher)

Röntgenquelle: wahlweise Al (monochromatisiert) oder Mg/Al

Analysator/Detektortyp: Hemisphärisch/Channeltron

Min. FWHM: 0.58 eV (Ag 3d)

Min. Messpunktgröße: 20 µm

Probentemperatur: regelbar 100-1000 K

Weitere Optionen:

Restgasanalyse mit Quadrupol-MS

UPS-Quelle für HeI und HeII

Ar-Sputter-Quelle für Ar⁺ und Ar-Cluster

XPS-Imaging (Auflösung 2 µm)

Elektronen-Quelle für REELS

Automatische Ladungskompensation

An Vakuumsystem angeschlossene Glovebox

Das XPS-Spektrometer steht für Messungen auf Anfrage für alle Arbeitsgruppen der Universität und auch für externe Nutzer zur Verfügung, entsprechend der Nutzerordnung. Bei Interesse kontaktieren Sie bitte:

Dr. Carsten Dosche

Tel.: 04417983975

Email: carsten.dosche{at}uni-oldenburg.de